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更新時(shí)間:2024-05-24
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產(chǎn)品介紹
DataRay 的 Beam'R2 非常適合許多激光束輪廓分析應(yīng)用。Beam'R2 具有標(biāo)準(zhǔn)的 2.5 μm 狹縫和更大的刀刃狹縫,能夠測(cè)量直徑小至 2 μm 的光束。Beam'R2 提供硅和 InGaAs 或擴(kuò)展 InGaAs 選項(xiàng),可以對(duì) 190 nm 至 2500 nm 的光束進(jìn)行剖析。掃描狹縫儀器的分辨率比基于相機(jī)的系統(tǒng)高得多。
特點(diǎn)
多種檢測(cè)器選項(xiàng),范圍為 190 至 2500 nm
190 至 1150 nm,硅探測(cè)器
650 至 1800 nm,InGaAs 探測(cè)器
1800 至 2300/2500 nm,InGaAs(擴(kuò)展)探測(cè)器
符合 ISO 標(biāo)準(zhǔn)的光束直徑測(cè)量
端口供電的 USB 2.0
自動(dòng)增益功能
用于符合 ISO 11146 標(biāo)準(zhǔn)的 M2 測(cè)量的可選載物臺(tái)附件
True2D? 狹縫
分辨率達(dá) 0.1 μm
5 Hz 更新速率(可調(diào) 2 至 10 Hz)
剖面 CW/準(zhǔn)連續(xù)波光束
光束直徑 5 μm 至 4 mm,刀鋒模式下為 2 μm
應(yīng)用實(shí)例
非常小的激光束輪廓
光學(xué)組件和儀器對(duì)準(zhǔn)
OEM 集成
鏡頭焦距測(cè)試
實(shí)時(shí)診斷對(duì)焦和對(duì)準(zhǔn)誤差
將多個(gè)裝配體實(shí)時(shí)設(shè)置為同一焦點(diǎn)
M2 測(cè)量,提供 M2DU 載物臺(tái)
True2D? 狹縫
藍(lán)寶石襯底上的 0.4 μm 厚金屬多層薄膜
與氣縫相比,具有多種優(yōu)勢(shì)
避免隧道效應(yīng)
氣縫通常比寬深,并且在高輻照度下會(huì)彎曲
規(guī)格
波長(zhǎng) |
硅探測(cè)器:190 至 1150 nm InGaAs 探測(cè)器:650 至 1800 nm Si + InGaAs 探測(cè)器:190 至 1800 nm Si + InGaAs(擴(kuò)展)探測(cè)器:190 至 2300 或 2500 nm |
掃描光束直徑 |
硅探測(cè)器:刀刃模式 下為 5 μm 至 4 mm' 至 2 μm InGaAs 探測(cè)器:刀刃模式 下為 10 μm 至 3 mm' 至 2 μm InGaAs(擴(kuò)展)探測(cè)器:刀刃模式下為 10 μm 至 2 mm' 至 2 μm |
光束腰徑測(cè)量 |
第二力矩 (4s) 直徑符合 ISO 11146;擬合高斯 &
TopHat 1/e2 (13.5%) 寬度 用戶可選擇峰值 的百分比 刀刃模式,適用于非常小的光束 |
測(cè)量源 | CW,準(zhǔn)CW光束 |
分辨率精度 |
0.1 μm 或掃描范圍 的 0.05%± <2% ± = 0.5 μm |
最大功率和輻照度 | 總功率 1 W & 0.5 mW/μm2 |
增益范圍 | 1'000:1 切換;4'096:1 ADC范圍 |
顯示的圖形 | X-Y 位置和輪廓的縮放 x1 到 x16 |
更新速率 | ~5 Hz,可塵埃 2 至 10 Hz |
通過(guò)/失敗顯示 | 屏幕上可選擇的通過(guò)/失敗顏色。QA和生產(chǎn)的理想選擇。 |
平均 | 用戶可選運(yùn)行平均值(1 至 8 個(gè)樣本) |
統(tǒng)計(jì)學(xué) |
最小值、最大值、平均值、較長(zhǎng)時(shí)間的標(biāo)準(zhǔn)差 對(duì)數(shù)數(shù)據(jù) |
XY輪廓和質(zhì)心 | 光束漂移顯示和記錄 |
要求 | Windows 10 64 位 |
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